可处理最高常用温度1650℃的SiC超高温热处理
除了In situ Cleaning，还拥有兼顾超高纯度工艺与高产量需求的独有技术
可处理高精度/高真空/高温工艺的急速降温
可以自有耐腐蚀/密封技术处理腐蚀性/毒性气体的使用
从研发到6inch大批量生产的丰富产品
多年累积的采购以及量产运用上的丰富业绩
化（O2、Pyrogenic）
氧氮化（N2O、NO）
退火（N2、Ar、H2、NH3）
POA（Post Oxidation Anneal）
Ailesic-2000
常用温度：1200℃~1900℃
最高使用温度：1950℃
温度均一性：1900±5℃（±0.3% ）
温度再现性：1900±2℃（±0.1%）
晶体尺寸：Φ4~ Φ6 inch
处理片数：25片/批
降温时间：85分钟以内
*从1900 ℃到unloading温度
