SiC高温氧化炉
优点:

可处理最高常用温度1650℃的SiC超高温热处理

除了In situ Cleaning,还拥有兼顾超高纯度工艺与高产量需求的独有技术

可处理高精度/高真空/高温工艺的急速降温

可以自有耐腐蚀/密封技术处理腐蚀性/毒性气体的使用

从研发到6inch大批量生产的丰富产品

多年累积的采购以及量产运用上的丰富业绩

应用:

化(O2、Pyrogenic)

氧氮化(N2O、NO)

退火(N2、Ar、H2、NH3)

POA(Post Oxidation Anneal)

产品详情

Ailesic-2000

常用温度:1200℃~1900℃

最高使用温度:1950℃

温度均一性:1900±5℃(±0.3% )

温度再现性:1900±2℃(±0.1%)

晶体尺寸:Φ4~ Φ6 inch

处理片数:25片/批

降温时间:85分钟以内

*从1900 ℃到unloading温度